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工业废气处理要区别民用场所空气净化。工业废气处理要能有效去除工厂车间产生的苯、甲苯、二甲苯，醋酸乙酯，丙酮，乙醇，丙烯酸，甲醛等**废气，硫化氢，二氧化硫，氨等酸碱废气处理。

工业废气处体具体包括丙酮、、丁醇、甲醇、甲醛、苯、甲苯、二甲苯、苯乙烯、甲基叔丁基醚、乙酸乙酯、次甲基氯、乙烷、戍烷、天然气、汽车尾气、硫化氢、二硫化氢、硫醇、氨气和各种**废气、酸碱废气。

工业废气的种类颇多，因此针对相应的工业废气，采用科创技术，进行技术的的组合与拆分，能够更好更高效的对污染物进行去除。

不同类型**物的光催化降解
半导体光催化剂大多是n型半导体材料(当前以TiO2使用很广泛)，具有区别于金属或绝缘物质的特别的能带结构，即在价带和导带之间存在一个禁带。由于半导体的光吸收阈值与带隙具有公式K=1240/Eg(eV)的关系，因此常用的宽带隙半导体的吸收波长阈值大都在紫外区域。在光照下，如果光子的能量大于半导体禁带宽度，其价带上的电子(e-)就会被激发到导带上，同时在价带上产生空穴(h+)。当存在合适的俘获剂、表面缺陷或者其他因素时，电子和空穴的复合得以抑制，就会在催化剂表面发生氧化—还原反应。价带空穴是良好的氧化剂，导带电子是良好的还原剂，在半导体光催化反应中，一般与表面吸附的H2O、O2反应生成˙OH和**氧离子O2-，能够把各种**物直接氧化成CO2、H2O等无机小分子，电子也具有强还原性，可以还原吸附在其表面的物质。激发态的导带电子和价带空穴能重新合并，并产生热能或其他形式散发掉。